Aln keramičke stezaljke pružaju ultra stabilnu rukovanje reziom u poluvodičkim proizvodnjom kroz ove ključne mehanizme:
Termička stabilnost - sa CTE od 4,5 ppm \/ k (odgovarajući silikonski remen), Aln minimizira toplotnu drift tokom brzog ciklusa grijanja \/ hlađenja (do 300 stepeni \/ min).
Electrostatic Clamping–High dielectric strength (>15 kV \/ mm) omogućava ujednačene elektrostatičke sile preko rezine sa ± 1% tolerancije varijacije debljine.
Polična stana - polirana<0.1μm Ra roughness via diamond grinding, preventing particle generation while maintaining vacuum-compatible surface contact.
Termička uniformnost-toplotna provodljivost od {0}} W \/ MK osigurava manje ili jednake ± 0,5 stupnjeva temperaturnim gradijentima preko 300 mm vafla tokom procesa Etching ili CVD.
Otpornost na plazmu - izdržava halogene plazma (CF₄ \/ O₂) 10x duže od alumina, održavajući površinsku svojstva preko 50, 000 ciklusa vatre.
Ne-magnetna svojstva - eliminira smetnje u procese Ion implantacije (kritično za<7nm node patterning).
Mikro-porozni vakuum dizajn-laser-izbušeni 10-50 μm rupe pružaju jednoliku vakuumsku zadržavanje bez leđih kontaminacije.
Certificirani za polu E78 standarde, Aln Chucks postižu<0.25μm wafer shift during high-speed robotic transfers, enabling sub-3nm overlay accuracy in EUV lithography tools. Their combination of thermal/electrical performance and durability makes them indispensable for advanced node fabrication.
Ako želite znati o veletrgovcima u blizini mene, posjetite sljedećewww.ceramicstimes.com
